Reka bentuk optik mempunyai pelbagai aplikasi dalam bidang semikonduktor. Dalam mesin fotolitografi, sistem optik bertanggungjawab untuk memfokuskan pancaran cahaya yang dipancarkan oleh sumber cahaya dan menayangkannya ke wafer silikon untuk mendedahkan corak litar. Oleh itu, reka bentuk dan pengoptimuman komponen optik dalam sistem fotolitografi adalah cara penting untuk meningkatkan prestasi mesin fotolitografi. Berikut adalah beberapa komponen optik yang digunakan dalam mesin fotolitografi:
Objektif unjuran
01 Objektif unjuran ialah komponen optik utama dalam mesin litografi, biasanya terdiri daripada satu siri kanta termasuk kanta cembung, kanta cekung dan prisma.
02 Fungsinya adalah untuk mengecilkan corak litar pada topeng dan memfokuskannya pada wafer yang disalut dengan photoresist.
03 Ketepatan dan prestasi objektif unjuran mempunyai pengaruh yang menentukan pada resolusi dan kualiti pengimejan mesin litografi
Cermin
01 Cermindigunakan untuk menukar arah cahaya dan mengarahkannya ke lokasi yang betul.
02 Dalam mesin litografi EUV, cermin amat penting kerana cahaya EUV mudah diserap oleh bahan, jadi cermin dengan pemantulan tinggi mesti digunakan.
03 Ketepatan permukaan dan kestabilan reflektor juga mempunyai kesan yang besar terhadap prestasi mesin litografi.
Penapis
01 Penapis digunakan untuk membuang panjang gelombang cahaya yang tidak diingini, meningkatkan ketepatan dan kualiti proses fotolitografi.
02 Dengan memilih penapis yang sesuai, ia boleh dipastikan bahawa hanya cahaya dengan panjang gelombang tertentu memasuki mesin litografi, dengan itu meningkatkan ketepatan dan kestabilan proses litografi.
Prisma dan komponen lain
Di samping itu, mesin litografi juga boleh menggunakan komponen optik tambahan lain, seperti prisma, polarizer, dsb., untuk memenuhi keperluan litografi tertentu. Pemilihan, reka bentuk dan pembuatan komponen optik ini mesti mematuhi piawaian dan keperluan teknikal yang berkaitan untuk memastikan ketepatan dan kecekapan tinggi mesin litografi.
Secara ringkasnya, aplikasi komponen optik dalam bidang mesin litografi bertujuan untuk meningkatkan prestasi dan kecekapan pengeluaran mesin litografi, seterusnya menyokong pembangunan industri pembuatan mikroelektronik. Dengan pembangunan berterusan teknologi litografi, pengoptimuman dan inovasi komponen optik juga akan memberikan potensi yang lebih besar untuk pembuatan cip generasi akan datang.
Untuk mendapatkan lebih banyak pandangan dan nasihat pakar, lawati tapak web kami dihttps://www.jiujonoptics.com/untuk mengetahui lebih lanjut tentang produk dan penyelesaian kami.
Masa siaran: Jan-02-2025
