Reka bentuk optik mempunyai pelbagai aplikasi dalam bidang semikonduktor. Dalam mesin fotolitografi, sistem optik bertanggungjawab untuk memfokuskan sinar cahaya yang dipancarkan oleh sumber cahaya dan memproyeksikannya ke wafer silikon untuk mendedahkan corak litar. Oleh itu, reka bentuk dan pengoptimuman komponen optik dalam sistem fotolitografi adalah cara penting untuk meningkatkan prestasi mesin fotolitografi. Berikut adalah beberapa komponen optik yang digunakan dalam mesin fotolitografi:
Objektif unjuran
01 Objektif unjuran adalah komponen optik utama dalam mesin litografi, biasanya terdiri daripada satu siri kanta termasuk kanta cembung, kanta cekung, dan prisma.
02 Fungsinya adalah untuk mengecilkan corak litar pada topeng dan tumpukannya ke wafer yang disalut dengan photoresist.
03 Ketepatan dan prestasi objektif unjuran mempunyai pengaruh tegas terhadap resolusi dan kualiti pengimejan mesin litografi
Cermin
01 Cermindigunakan untuk menukar arah cahaya dan mengarahkannya ke lokasi yang betul.
02 Dalam mesin litografi EUV, cermin amat penting kerana cahaya EUV mudah diserap oleh bahan, jadi cermin dengan pemantulan yang tinggi mesti digunakan.
03 Ketepatan permukaan dan kestabilan reflektor juga mempunyai kesan yang besar terhadap prestasi mesin litografi.
Penapis
01 Penapis digunakan untuk menghilangkan panjang gelombang cahaya yang tidak diingini, meningkatkan ketepatan dan kualiti proses fotolitografi.
02 Dengan memilih penapis yang sesuai, ia dapat memastikan bahawa hanya cahaya panjang gelombang tertentu memasuki mesin litografi, dengan itu meningkatkan ketepatan dan kestabilan proses litografi.
Prisma dan komponen lain
Di samping itu, mesin litografi juga boleh menggunakan komponen optik tambahan lain, seperti prisma, polarizer, dan lain -lain, untuk memenuhi keperluan litografi tertentu. Pemilihan, reka bentuk dan pembuatan komponen optik ini mesti mengikut standard dan keperluan teknikal yang relevan untuk memastikan ketepatan dan kecekapan mesin litografi yang tinggi.
Ringkasnya, penggunaan komponen optik dalam bidang mesin litografi bertujuan untuk meningkatkan prestasi dan kecekapan pengeluaran mesin litografi, dengan itu menyokong pembangunan industri pembuatan mikroelektronik. Dengan perkembangan teknologi litografi yang berterusan, pengoptimuman dan inovasi komponen optik juga akan memberikan potensi yang lebih besar untuk pembuatan cip generasi akan datang.
Untuk lebih banyak pandangan dan nasihat pakar, lawati laman web kami dihttps://www.jiujonoptics.com/Untuk mengetahui lebih lanjut mengenai produk dan penyelesaian kami.
Masa Post: Jan-02-2025
